Вакуумно-плазменное оборудование
Нанесение пленок
В плазме магнетронного разряда
Термическое испарение
Электронно-лучевое испарение
Плазменно-дуговое испарение
Термическое испарение
Электронно-лучевое испарение
Плазменно-дуговое испарение
Сухая обработка поверхности в плазме ВЧ разряда
В плазме магнетронного разряда
Термическое испарение
Электронно-лучевое испарение
Плазменно-дуговое испарение
Термическое испарение
Электронно-лучевое испарение
Плазменно-дуговое испарение
Осаждение пленок из газовой среды в плазме ВЧ разряда
В плазме магнетронного разряда
Термическое испарение
Электронно-лучевое испарение
Плазменно-дуговое испарение
Термическое испарение
Электронно-лучевое испарение
Плазменно-дуговое испарение
Кластерное оборудование
6-ти позиционный кластер
3-х позиционный кластер
2-х позиционных кластер
3-х позиционный кластер
2-х позиционных кластер
Узлы и детали
6-ти позиционный кластер
3-х позиционный кластер
2-х позиционных кластер
3-х позиционный кластер
2-х позиционных кластер
Физико-термическое оборудование
Термообработка при 300-2100°С (Групповая обработка)
В плазме магнетронного разряда
Термическое испарение
Электронно-лучевое испарение
Плазменно-дуговое испарение
Термическое испарение
Электронно-лучевое испарение
Плазменно-дуговое испарение
Выращивание монокристаллических структур (эпитаксия)
В плазме магнетронного разряда
Термическое испарение
Электронно-лучевое испарение
Плазменно-дуговое испарение
Термическое испарение
Электронно-лучевое испарение
Плазменно-дуговое испарение
Прецизионная очистка материалов методом ректифика
В плазме магнетронного разряда
Термическое испарение
Электронно-лучевое испарение
Плазменно-дуговое испарение
Термическое испарение
Электронно-лучевое испарение
Плазменно-дуговое испарение