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Development and manufacturing of scientific and experimental-industrial technological equipment |
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Vacuum plasma equipment |
Physical and thermal equipment |
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Film deposition (PVD) |
Dry processing |
Plasma-enhanced chemical vapor deposition |
Gasthermal group |
Single-crystal structure growing (Epitaxy) |
Precision material cleaning |
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| Magnetron sputtering | Etching and ion cleaning | PECVD with diode system | Layer deposition | From liquid environment at 300-1250 °С | Gas cleaning by rectification | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
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| Thermal evaporation | Plasma chemical etching | PECVD with inductively coupled plasma source (ICPPECVD) | Oxidation | From gas environment at 550-1300 °С | Liquid cleaning by rectification | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
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| Electron-beam evaporation | Reactive ion etching (RIE) | Atomic layer deposition (ALD) | Diffusoin | Solid material cleaning by sublimation | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
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| Plasma arc evaporation | RIE with inductively coupled plasma source (ICPRIE) | Annealing | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||