Фильтр
По популярности (убывание)
По популярности (убывание)
Поиск по каталогу/Плазмохимическое осаждение – ПХО
В наличии
Осаждение диэлектрических слоев с ICP источником плазмы для формирования щелевой и межслойной изоляции, в том числе на стенках контактных и переходных отверстий межслойных соединений
Диаметр пластин
—
До 100мм, 150мм, 200мм
Возможность быть в составе кластера
—
Да
Возможность встраивания в чистую комнату
—
Да
Тип загрузки пластин
—
SMIF контейнер, Из кассеты в кассету, Шлюзовая
Связаться с нами
Поиск по каталогу/Плазмохимическое осаждение – ПХО
В наличии
Атомно-слоевое осаждение свертонких пленок.
Диаметр пластин
—
До 100мм, 150мм, 200мм
Возможность быть в составе кластера
—
Да
Возможность встраивания в чистую комнату
—
Да
Тип загрузки пластин
—
SMIF контейнер, Из кассеты в кассету, Шлюзовая
Связаться с нами
Поиск по каталогу/Плазмохимическое осаждение – ПХО
В наличии
Низкотемпературное осаждение диэлектрических слоев оксида или нитрида кремния из газовой фазы на пластинах диаметром до 300 мм.
Диаметр пластин
—
300мм
Возможность встраивания в чистую комнату
—
Да
Тип загрузки пластин
—
FOUP контейнер
Связаться с нами